大塚電子薄膜測厚儀使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數(shù)的軟件

采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽較氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適。

特點

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高精度反射率（多層膜厚度，光學常數(shù)）

1點1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外至近紅外）

區(qū)域傳感器的安全機制

易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數(shù)分析

單獨測量頭對應各種inline客制化需求

支持各種自定義

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