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隨著市場需求的變化,中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分,近年國內(nèi)的靶材行業(yè)發(fā)展迅速,靶材供應(yīng)商紛紛加大研發(fā)和投入,廣東的靶材供應(yīng)商發(fā)展勢頭強(qiáng)勁,中高等的靶材制造商在廣州實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類也越來越豐富 :銀(Ag)靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻(NiCr)靶、鋅錫(ZnSn)靶、硅鋁(SiAl)靶、氧化鈦(TixOy)靶,鎳鉻靶等。
靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應(yīng)用是制備汽車后視鏡,主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車后視鏡檔次要求的不斷提高,這些企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。
伴隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移,鍍膜期間隨之發(fā)展迅速,靶材是一種具有高附加值的特種電子材料,是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料,已得到從未有過的發(fā)展,靶材市場規(guī)模日益膨脹。國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝,可生產(chǎn)非常大長度600mm,非常大寬度400mmm,非常大厚度30mm,圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。
陶瓷靶材的特性要求:
(1)純度:陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大,純度越高,濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來,隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,對(duì)成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格,其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。
(2)密度:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí),濺射顆粒的密度月底,放電現(xiàn)場就越弱,薄膜的性能也越好。
(3)成分與結(jié)構(gòu)均勻性:為保證濺射薄膜均勻,尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中,必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。
相信在不久的將來,國內(nèi)會(huì)有更多的靶材供應(yīng)商,向國外中高等靶材市場發(fā)起一波強(qiáng)而有力的沖擊。
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